P.C及R.C电镀时电极表面粗糙度的比较
DOI:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


The comparison of electrode Surface roughening in pulsating current and periodic reverse current electrodeposition of metals
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    比较了方波脉冲及周期换向电镀时电极表面的粗糙度,结果表明方波脉冲电流下电极表面粗糙度较少。

    Abstract:

    Comparison mas made of electrode surface roughening in pulsating current and periodic reverse current electrodeposition. It was shown that less rough deposits were obtained in electrodeposition with a pulsating current.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

钱晓芳,刘松琴. P. C及R. C电镀时电极表面粗糙度的比较[J].食品与生物技术学报,1993,12(3).

Qian Xiaofang. The comparison of electrode Surface roughening in pulsating current and periodic reverse current electrodeposition of metals[J]. Journal of Food Science and Biotechnology,1993,12(3).

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:

版权所有:《食品与生物技术学报》编辑部

地址:江苏省无锡市蠡湖大道1800号  邮政编码:214122

电话:0510-85913526  电子邮件:xbbjb@jiangnan.edu.cn

技术支持:北京勤云科技发展有限公司

微信公众号二维码

手机版网站二维码